BN简报：利用毫微秒脉冲制备高取向氮化硼/环氧树脂基纳米复合膜
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- 日期： 2014年12月23日
- 作者：Super User
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在氮化硼/聚合物复合材料中，氮化硼纳米片如果按垂直于C轴方向排列，复合材料的导热率大概是氮化硼纳米片平行于C轴时复合材料导热率的20倍，通过施加电场可以定向排布处在粘稠聚合物（基体）中的氮化硼（已经完成表面处理）。但是如果氮化硼未被处理，需要很强的电场才能完成氮化硼的取向（氮化硼禁带很宽），但是由于聚合物的击穿电压很低，施加的电场强度很受限制。Hong-Baek Cho, Nguyen Chung Tu, Takeshi Fujihara等人用毫微脉冲电场克服了击穿电压受限这一问题，同时消除了氮化硼必须进行表面处理这一必要性。利用这种方法制备的复合膜中氮化硼具有很高的取向性，同时复合膜的导热率高于不加电场下制备的复合膜的导热率。该成果发表在Materials Letters 65 (2011) 2426–2428上。
